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  • 解析投影式光刻机曝光分类   对于普通人来说，光刻机或许是一个陌生的名词，但它却是制造大规模集成电路的核心装备，每颗芯片诞生之初，都要经过光刻技术的锻造。   光刻机，又名掩模对准曝光机，光刻系统...2016-08-17 16:46:37
  • URE-2000A型光刻机  URE-2000A型光刻机 ◆ 曝光面积：150mm×150mm ◆ 分辨力：0.8-1μm（胶厚2μm的正胶） ◆ 对准精度：0.6μm ◆ 掩模样片整...2016-04-15 09:09:37
  • URE-2000S/A型单、双面光刻机(厚胶型）URE-2000S/A 型单、双面   ◆ 曝光面积： 1 5 0 mm× 1 5 0 m m ◆ 分辨力： 1 μm（ 胶厚2 m 的正...2016-04-15 09:08:31
  • URE-2000B型光刻机  1．技术参数  曝光面积：110mm×110mm  分辨力：0.8mm（胶厚2mm的正胶）  对准精度：±1mm  最大焦厚：...2016-04-14 11:56:23
  • URE-2000/25型光刻机       URE-2000/25型光刻机         技术特征：        1、采用多反射镜实现均匀照明；               2、超精密手轮对准调节  ...2016-04-14 11:50:39
  • URE-2000/35型光刻机       URE-2000/35型光刻机          ◆ 曝光面积： 1 0 0 m m × 1 0 0 m m （ 可升级1 5 0 m m × 1 5 0 m m ）...2016-04-14 11:48:05
  • 使用光刻机曝光的三种方式 接触式曝光 接触式曝光是将掩膜与待加工基片的光胶层直接接触进行的曝光。掩膜和基片通过机械装置压紧或通过真空吸住等方法实现两者紧密接触。...2014-08-01 09:22:31
  • URE-2000/25型光刻机操作说明以及特性介绍 整机系统描述：  URE-2000/25 型深度光刻机， 是在 URE-2000A 和 URE-2000B 基础上开发 成功的...2014-06-27 13:17:45
  • PDMS/PMMA/GLASS实验室能区块——以芯片为主，完成各种检测和分析等功能。   配套产品：光刻机：需要对PDMS芯片的模板进行光刻加工。 推荐型号：美国ABM双面对...2024-12-19 01:34:46
  • 光刻技术首次绘出银纳米结构 为光学计算机研发开辟新途径稳定，仅在电子束聚焦处分解。银材料光刻技术的原理与其它材料光刻技术相似，光刻机的针尖将微量先导材料，一般是有机金属化合物靠近试样表面注射。电子束照射在...2017-08-09 14:34:17
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