使用光刻机曝光的三种方式

接触式曝光

接触式曝光是将掩膜与待加工基片的光胶层直接接触进行的曝光。掩膜和基片通过机械装置压紧或通过真空吸住等方法实现两者紧密接触。

优点：设备简单、造价便宜、分辨率较高，约1-2µm。由于掩膜与光胶层紧密接触，所以相差小，分辨率高。

缺点：由于掩膜与基片紧密接触，容易损坏掩膜与光胶层。

非接触式曝光

非接触式曝光是指掩膜和基片上的光胶层不直接接触实现图形复印曝光的方法。

优点:克服接触式曝光容易损坏掩膜和基片的缺点。

缺点：由于光的衍射效应会使图形的分辨率下降。

投影式曝光

投影式曝光是指掩膜与基片并不直接接触，而是以类似投影仪的投影方式来进行图形的转移。

优点：曝光均匀，没有色差、象差，可进行缩小投影曝光，因此掩膜的尺寸可比基片大很多倍，掩膜中的图形线条可做得较粗。

缺点：装置价格昂贵。