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URE-2000A型光刻机
:X: 5mm; Y: 5mm; : 6度 ◆ 最大胶厚:500m(
su8
胶,用户提供匀胶条件) ◆ 光源平行性:3.5 ◆ 汞灯功率:1...
2016-04-15 09:09:37
URE-2000B型光刻机
厚2mm的正胶) 对准精度:±1mm 最大焦厚:600mm(
su8
胶,用户提供检测条件) 曝光波长:365nm 光源平行度:2...
2016-04-14 11:56:23
微流控芯片基片图形光刻的三个步骤
通过以下三个主要步骤可以将光刻掩膜上微流控芯片设计图案转移到待加工基片表面: 首先用高速(5...
2014-08-13 09:33:16
模拟子宫的微流控芯片技术
in。超声后的玻璃用氮气吹干,备用。将洁净玻璃置于匀胶台,向其中心处滴加
su8
3025 光刻胶,匀胶机转速为600 r/ min,持续30 s,升高...
2014-06-30 09:03:39
正负光刻胶的缺点对比
su8
光刻胶 ...
2014-06-25 10:49:59
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