优点：选择性高、均匀性好、对硅片损伤少，几乎适用于所有的金属、剥离、塑料等材料。
缺点：图形保真度不强，刻蚀图形的最小线宽受到限制。
干法腐蚀是指利用高能束与表面薄膜反应，形成挥发性物质，或直接轰击薄膜表面使之被腐蚀的工艺。
优点：能实现各向异性刻蚀，即纵向的刻蚀速率远大于横向刻蚀的速率，保证了细小图形转移后的高保真性。
缺点：设备昂贵
