AZ4620光刻胶超厚膜高感光度G线标准正型

超厚膜，高对比度，高感光度正型光刻胶，

适用于半导体制造及GMR磁头制造              

Ultra-thick film high contrast and high speed positive-tone standard photo resist 

for semiconductor and/or GMR head manufacturing processes.

1) 高对比度，高感光度

2) 高附着性，对电镀工艺高耐受性               

3) 多种粘度可供选择

1) High contrast,high sensitivity

2) High tolerance in plating,high adhesion property

3) Various viscosity products

前烘：100℃ 90秒以上 (DHP)

曝光：G线步进式曝光机/接触式曝光系统     

清洗：去离子水  

后烘：120℃ 60秒以上

剥离：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

Pre-bake: 100℃>90sec.(DHP)

Exposure: g-line stepper and/or Contact Aligner

Rinse: DI-water

Post-bake: 120℃>60sec.

Stripping: AZ Remover and/or O2 plasma-ashing

Product Name

 AZ P4210

  AZ P4330

  AZ P4400

  AZ P4620

   AZ P4903         

Viscosity

 49mPa

  115mPa

  160mPa

  400mPa

   1550mPa