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  • 掩膜的制备以及对掩膜的要求原理是图形区和非图形区对光线的吸收和透射能力不同。通过曝光成像的原理，将掩膜上的图形转移到基片光胶上。    ...2014-08-11 13:24:56
  • 光刻胶及光刻工艺流程机化合物，它受紫外光曝光后，在显影液的溶解度会发生变化。①光刻胶作用：将掩膜板上的图形转移到晶圆表面顶层的光刻胶中；在后续工序中，保护下面的材料（刻...2017-08-23 10:25:14
  • 光刻胶及光刻工艺流程的有机化合物，受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。主要作用是将掩膜板上的图形转移到晶圆表面顶层的光刻胶中；以及在后续工序中，保护下面的材料...2016-08-23 16:51:39
  • 解析投影式光刻机曝光分类都有所耳闻，但是对于投影式曝光，我们了解的甚少。   投影式曝光是指，在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图...2016-08-17 16:46:37
  • 微流控芯片的制作与修饰igner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻...2016-06-14 14:42:59
  • 微混合、反应和分离系统 微升*150微升*10微升）；        B制备微型色谱柱的掩膜图形。        通道以2的N次方函数形式逐步从一条宽带为3...2015-02-03 09:57:08
  • Mask Aligner        Mask Aligner        这是光掩膜上面的图案被印到半导体用镜片或玻璃基板上的OpticalLithogra...2015-01-26 15:39:34
  • 玻​璃​​P​D​M​S​微​流​控​芯​片的​制​备​工​艺AutoCAD软件绘制芯片图形,用高分辩率激光照排机在照相底片上制得光刻掩膜.利用磁控溅射镀膜机在清洗后的玻璃基片表面镀上铬膜,然后在其表面匀上RZ...2015-01-25 18:32:19
  • 先进的加工生产设备斯型系统，即：电子束斑为高斯线型，工作时采用矢量扫描方式。电子束曝光无需掩膜，可实现低至10nm线宽图形，是目前纳米技术研究中非常重要的纳米图形生成...2015-01-23 11:53:00
  • 在微流芯片中实现可控PH梯度 将图中的图形用3600dpi的打印机打印输出到透明胶片上, 作为掩膜版使用.  使用AZ50 光刻胶, 在Si片上以光刻的方法得...2014-08-14 09:24:34
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